只有密切关注行业及市场发展变化,才能跟上时代的发展脉搏，不被市场淘汰。竞争对手作为同行，其申请的专利一定程度也代表行业的发展方向。以剖析竞争对手专利为导向的创新点挖掘目的有三：其一，分析竞对手专利，寻找行业发展方向，并提前申请;其二，绕过竞争过手的专利阻碍;其三，针对竞争对手核心专利进行包绕式挖掘和布局，反制竞争对手。
竞争对手的核心专利往往与其核心产品相关联，通过竞争对手核心产品可识别其核心专利。识别竞争对手核心专利后，需调整企业的技术方向，防止侵犯竞争对手的专利技术，避免不必要的法律纠纷;识别竞争对手专利后，通过要素替换等手段，绕过竞争过手的专利阻碍，并评估替换手段的创造性，如替代技术手段具有创新性，可提前申请专利进行布局;识别竞争对手专利后，可从上下游行业的纵向，挖掘创新点，并提前进行专利布局，并从产品的零部件、测试方法、制造工艺挖掘创新点，并提前进行专利布局，全方位包绕竞争对手的核心专利，使竞争对手进行批量化生产或运用专利技术时，极易侵犯企业后期挖掘并申请的专利，迫使竞争对手以交叉许可的方式，与企业共享专利技术，从而绕过竞争对手的专利阻碍。竞争对手的核心专利一般都代表了竞争对手的创新方向，也代表了行业的发展方向，通过对竞争对手的核心专利分析，可一定程度了解行业发展趋势，企业研发人员可沿行业发展趋势进行有针对性的研发，提高研发效率的同时，可产生新的创新技术，进而产生更多的专利。
对竞争对手核心专利要素替换挖掘创新点，一般确定竞争专利技术方案的主要要素，进而找到主要要素的上位要素（包括主要要素的更宽的技术范畴，如金属铜的上位要素是金属），并采用上位要素中与主要要素相近的其他要素替换主要要素，如达到了相近的技术效果，则绕过竞争对手的专利阻碍，评估后如认为替代技术具有创新性，可提前申请专利进行布局。
案例：一种光学真空镀膜机内腔清洁方法
案例设置目的：用于理解以剖析竞争对手专利为导向的创新点挖掘，特别是要素替换的创新点挖掘。此案例为便于解读，对竞争对手的专利内容做了修订。
案例背景：光学元件真空镀膜过程中，镀膜材料蒸气沉积到被镀光学元件的同时，也会沉积到镀膜机内腔及夹具表面，并随镀膜次数及时间的增加，越累越厚。而这些沉积物附着并不稳固，极易脱落至被镀光学元件上，造成被镀光学元件镀膜缺陷。定期清除镀膜机内腔及夹具表面沉积物成为光学真空镀膜工序的重要工作，光学元件镀膜材料多为二氧化硅、二氧化钛、二氧化错耐蚀氧化物，采用一般的酸洗工艺很难除去，必须采用喷砂、砂布打磨等手段才能清洁干净，效率低并且对镀膜机内腔及夹具损伤较大。
中国专利《蒸镀装置和回收装置》公开了一种回收蒸镀装置，此回收蒸镀装置在真空腔室的防附着板和闸门的被蒸镀蒸镀颗粒的表面的至少一部分上设置有能够从防附着板和闸门剥离的薄膜，薄膜包含熔点、升华点、相对于微生物的生物降解性和光分解特性中的至少一个与在薄膜上形成的蒸镀膜不同的材料。
第一步：理解竞争对手专利的精髓。
通过对现有技术中国专利《蒸镀装置和回收装置》的反复阅读及分析研究，可以看出，此专利最大的创新点是在真空腔室的防附着板表面提前附着一层可剥离的薄膜。
第二步：归纳总结现有技术创新点的上位概念。
反复阅读及分析研究，可以看出，可剥离薄膜与薄膜上形成的蒸镀膜的熔点、升华点、相对于微生物的生物降解性和光分解特性不同,即通过加热熔化及升华、微生物降解、光分解可除去可剥膜，而不破坏薄膜上形成的蒸镀膜，三者归纳所得的上位概念如下:特定条件下可剥膜破坏而薄膜上形成的蒸镀膜不破坏。
第三步：寻找所归纳上位概念之下，现有技术中没有的下位概念。
镀膜材料的性能指标很多，除熔点、升华点、生物降解性、光分解性外，还存在溶解性、机械强度等性能。我们可以在特定溶液（溶剂）中溶解性能不同方面做些工作。
第四步：以新的下位概念替代现有技术中的下位概念，形成新的技术方案。回收蒸镀装置在真空腔室的防附着板和闸门的被蒸镀蒸镀颗粒的表面设置有特定溶剂条件下，与薄膜上形成的蒸镀膜溶解性能不同的剥离的薄膜。
第五步：提炼包含创新点并将在表述有所调整的具体技术方案形成技术交底材料。
在光学真空镀膜机中镀制隔离膜,隔离膜为可溶于酸性水性清洗液的金属膜、氧化物膜或氟化物膜。
第六步：为提高授权概率，进一步细化技术方案，适当缩小保护范围，并作为从属权利使用。
光学真空镀膜机内腔清洁方法具体步骤如下:①将光学真空镀膜机内腔及夹具清洁干净;②装载外形尺寸合格而其他技术指标不作要求的光学元件，在光学真空镀膜机中镀制,膜层厚度为20 ~ 200nm，可溶于酸性水性清洗液的金属膜、氧化物膜或氟化物膜中的一种或几种组合的隔离膜;③将镀有隔离膜的光学元件取下，装载合格光学元件，按其技术要求在光学真空镀膜机中镀制膜层;④光学真空镀膜机内腔及夹具达到清洁周期后，取下光学真空镀膜机内腔及夹具在酸性水性清洗液中清洗，除去内腔及夹具表面沉积物;⑤除去光学真空镀膜机内腔及夹具表面残余的酸性水性清洗液，烘干或晾干光学真空镀膜机内腔及夹具，将内腔及夹具装入光学真空镀膜机;⑥按步骤②~⑤开展光学元件真空镀膜下一生产及清洁周期。
第七步：形成技术交底材料或自行申请专利。
